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探讨UG逆向工程之正向造型法

时间:2010-11-15 10:57:50 来源:

  本文通过一个电子产品的外壳点云的逆向造型实例讲解UG中点云处理方法和规则外形的逆向造型基本原则,了解UG在处理不同的数据源下的逆向造型方法。掌握基本的外形拆分方法和外形判断方法。

  1. 正向造型法对大多CAD软件来说,逆向造型和正向造型并没有本质的区别,唯一的不同是数据来源不同。所以对于一些特定类型的造型,可以考虑用正向造型的方法来实现的。如下图的点云(已转成stl),是nokia858手机的上壳,相对来说形状是比较规则的,并且主要的几个面构成也是比较直观的,所以适合用正向造型的方法来进行。

  首先,我们在开始造型之前,应该进行仔细的分析,想像出各个面的主要构成方法以及过渡的可能方式,这样我们才能做到有的放矢。首先整体形状是有一个围侧面(1)和顶面(7)以及一个类圆角面(2)构成,对于侧面(1),在造形之前我们可以猜测它是扫出的或是混成的。对于类似这样顶面(7),我一般强烈倾向于扫出面,对于(2),一般用圆角搞定没问题(注意必要的时候切换成conic类型的圆角以更拟合实际情况)。

  然后看局部和过度,(3)的面初步猜测应该是顶面offset一定的距离生成,至于是否有呆后面的验证。(5)面仔细观查会发现和顶面并非一个面,所以需要另一个扫出面来拟合。(6)面比较难点,是个典型的过度,从顶部的级差过度到侧面的消失,在目前来看可能的做法是作消失面,或者倒圆角(是否觉得不可思议?这里的判断需要建立在想像和经验上)。后面你会看到这个看似复杂的过度居然真的就可以用圆角搞定。(4)面什么难度,两个轨迹的可变扫出就可以轻松搞定。下面我们就开始动手了。不管形状如何,我想分型轮廓线应该是我们的工作的第一步。所以我们先作分型面,对于这个实体来说,分型面比较简单就是一个圆弧拉伸面

  然后用投影到分型面的方法来创建分型轮廓线,注意在草绘的时候利用已有的点云作参考。。。目测就行啦。

  然后用投影到分型面的方法来创建分型轮廓线,注意在草绘的时候利用已有的点云作参考。。。目测就行啦。接着创建分中的脊线。注意这时候应该刻意把类圆角面部分去掉,也就是草绘成尖角的,这样可以最后再作类圆角面以简化构建工作。并且草绘最好由尽量少的简单元素构成,比如圆弧和spline通常是比较好的选择。注意两个侧面最好是类似的构成,在这里都是用一个圆弧构成。如下图所示

  对于另一个方向的脊线,因为没有明显的对称性,创建的位置就有点考究了,通常建议在一些特殊的位置创建,比如最高点(这点的向量必然符合正交性的)。如下图我们作一个通过脊线的最高点的基准面。然后用这个基准面到restyle下和点云相交出一条线作参考。

  借助于上一步的参考线,我们可以方便的创建出另一条脊线,同样的这条脊线也尽量用少而简单的元素构成并且去掉类圆角部分。侧面也用一条圆弧构成。目的自然也是为了围侧面创建的规则性。

  这样,我们就已经创建出了三条主干轮廓了。

  我们创建的原则是简单先行,在这些面中,显然顶面是最简单的,我们先来试试用可变扫出的结果如何。这个扫出面就用主脊线作轨迹,R260的圆弧作截面进行扫出,这样就可以和上步创建的顶截面相吻合。

  然后创建围侧面,为了观查方便,我先把顶面的隐藏了,后面的步骤也是这样,就不作特别说明了。因为侧面的变化比较快,所以要适当在中间的部分添加一些控制截面。如下图的两个截面就是新添加的,详细的添加方法看part,同样用restyle的交线作参考侧面用单一圆弧构成。

  可以看到侧面的圆弧的变化比较大并且没有简单的规律,所以只好放弃用可变扫出的方法改用混成,为此我们要作出如下图的连线。

  线作好了,面就简单了

  而对于底部的侧面,就可以用restyle下的指令用一条轨迹和一个截面来扫出

  然后就是延伸,合并,大体外形就出来了 .Offset做级差面

  下面的圆角没啥特殊的,注意控制的是大小

  这个圆角一倒,是不是觉得神似了

  完成这一步,实际上这模型的主要难题都解决了,剩下的工作就类似于体力劳动了,这里我也不再累述了,自己研究研究part就好。(仔细看别人的part好处多多阿)。

  等基本外形完成后,你应该进行一下偏差分析,这一步可以借助第三方软件或在proe中用截面线来进行。对于偏差太大的地方通过调整构造线来进行,必要时候添加额外的辅助线。但是切记,简单就是好的,一般的产品曲面都是比较规则和简单的。